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2021年9月22日下午，我院舉辦第三期“光創(chuàng)薈”大講堂，邀請了中科院上海光機(jī)所研究員、博士生導(dǎo)師曾愛軍博士主講，題目是“從深紫外投影光刻機(jī)照明系統(tǒng)出發(fā)淺談光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計”，對面向1X nm及其以下工藝節(jié)點(diǎn)芯片制造的浸沒光刻機(jī)的照明系統(tǒng)作了概述，重點(diǎn)介紹光束處理技術(shù)、光瞳整形技術(shù)、光場勻化技術(shù)、照明中繼技術(shù)和偏振照明技術(shù)，以及相關(guān)技術(shù)原理在其他光學(xué)系統(tǒng)中的應(yīng)用等。對“光刻機(jī)概念-光刻機(jī)發(fā)展歷程-光刻機(jī)制造商-光刻機(jī)核心分系統(tǒng)-光刻機(jī)光源掩模偏振優(yōu)化”等相關(guān)知識作了科普介紹。

曾博士還通過“理論篇”、“實踐篇”等過程，分享了自己從“初入職場”到成為“技術(shù)負(fù)責(zé)人”的歷程，分享了他對科研事業(yè)的執(zhí)著追求與無限熱愛，大家都深受啟發(fā)，本次大講堂吸引了我院及產(chǎn)業(yè)化公司近40名科研人員及集萃研究生參加。